Термическое вакуумное осаждение тонких пленок методами термического испарения и электронно-лучевого испарения (ЦКП «Гетероструктурная СВЧ-электроника и физика широкозонных полупроводников»)
14 сентября 2018
251
| Виды услуг | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Оборудование, с использованием которого выполняется услуга | — |
| Ориентировочная стоимость | от 3 320 руб. |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
| Описание опыта выполнения аналогичных услуг | — |
Описание
Осаждение тонких металлических покрытий из паровой фазы на поверхность изделий из полупроводниковых; кварцевых, стеклянных и прочих диэлектрических материалов в вакууме. Применяется в цикле изготовления микроэлектронных компонентов, интегральных микросхем и подобных устройств микроэлектронной промышленности.