Атомно-слоевое осаждение (ALD) ультратонких слоев с конформным покрытием рельефа

14 сентября 2018
179
Виды услуг
Страна, регион, город Российская Федерация, Санкт-Петербург
Регламент предоставления услуги
Оборудование, с использованием которого выполняется услуга
Ориентировочная стоимость договорная
Наличие аккредитации Нет
Наличие ГОСТированной методики Нет
Описание опыта выполнения аналогичных услуг

Описание

Атомно-слоевое осаждение (ALD) это современная техника прецизионного осаждения ультратонких слоев с конформным покрытием рельефа для приложений субмикронной технологии и передовых исследований в области наноразмерных структур. OpAL и FlexAL представляют собой гибкие и функциональные установки атомно слоевого осаждения (Atomic Layer Deposition или ALD) с возможностью проведения процессов плазменного осаждения (Remote Plasma ALD).