Атомно-слоевое осаждение (ALD) ультратонких слоев с конформным покрытием рельефа
14 сентября 2018
299
| Виды услуг | — |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Санкт-Петербург |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Оборудование, с использованием которого выполняется услуга | — |
| Ориентировочная стоимость | договорная |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
| Описание опыта выполнения аналогичных услуг | — |
Описание
Атомно-слоевое осаждение (ALD) это современная техника прецизионного осаждения ультратонких слоев с конформным покрытием рельефа для приложений субмикронной технологии и передовых исследований в области наноразмерных структур. OpAL и FlexAL представляют собой гибкие и функциональные установки атомно слоевого осаждения (Atomic Layer Deposition или ALD) с возможностью проведения процессов плазменного осаждения (Remote Plasma ALD).