Ионно-пучковое травление и осаждение с применением плазменных ВЧ источников с нейтрализатором пучка

Ионно-лучевые технологии являются наиболее прецизионным и качественным вариантом реализации процессов травления и осаждения. Данные технологии находят применение в широком спектре приложений микроэлектроники, оптики, нанотехнологии и биомеханики. Системы серии Ionfab Oxford Instruments Plasma Technology представляют собой гибкую платформу для реализации ионно-лучевых технологий травления и осаждения. В различных конфигурациях систем могут быть реализованы технологии Ионно-лучевого травления (Ion Beam Etching IBE), реактивного ионно-лучевое травления (Reactive Ion Beam Etching (RIBE), химически ассистированного ионно-лучевого травления (Chemically Assisted Ion Beam Etching CAIBE), осаждения материала с распылением мишени ионным пучком (Ion Beam Sputtering IBS), прямого осаждения материала ионным пучком (Direct Ion Beam Deposition DIBD).