Обработка изображений, устранение дефектов, определение геометрических и статистических параметров

Исследование оптических свойств материалов; измерение основных характеристик (мощности, энергии и профиля пучка) источников лазерного излучения; тестирование элементов оптоэлектроники и нанофотоники с использованием лазерного излучения средней и высокой мощности в видимом, ИК- и УФ-диапазоне; рентгеноструктурный и рентгенофазовый анализ для качественного и количественного определения фазового состава, кристаллической структуры и размера кристаллитов в широком интервале температур; формирование рисунка в фоторезисте на поверхности пластины.