Программа моделирования осаждения тонкопленочных структур "MC Film Deposition"

Программа для ЭВМ предназначена для исследования процессов формирования тонкопленочных структур на основе метода Монте-Карло. Позволяет имитировать реальные физические процессы вакуумного осаждения частиц на подложку. В программе есть возможность задавать различные начальные условия осаждения (текстура подложки, угол осаждения, параметры диффузии и др.). Кроме того, программа на основе статистических методов исследования позволяет оценивать структурные характеристики получаемых образцов. Имеет удобный графический интерфейс пользователя для визуализации и анализа осажденных структур. Программа может быть использована в НИИ РФ, специализирующихся на исследовании тонкопленочных материалов и создании устройств на их основе.