Способ геттерирующей обработки эпитаксиальных слоев полупро-водниковых структур

Сергей Владимирович Оболенский
14 сентября 2018
148
Предметная область
Отрасли по ОКВЭД
Страна, регион, город Российская Федерация, Нижегородская область, Нижний Новгород
Отличия от конкурентов
Вид документа об охране ИС изобретение
Номер документа ИС 2176422
Дата регистрации документа ИС 2001-06-28
Необходимые инвестиции для внедрения договорная
Сроки внедрения
Стоимость предоставления технологии договорная
Наличие экспертного заключения Нет

Польза для потенциального потребителя

Способ геттерирующей обработки эпитаксиальных слоев полупроводниковых структур улучшающий параметры полупроводниковых слоев и увеличивающий уровень радиационной стойкости