Моделирование ионной имплантации из импульсной лазерной плазмы во внешнем электрическом поле

Грехов Максим Михайлович
14 сентября 2018
185
Предметная область
Отрасли по ОКВЭД
Страна, регион, город Российская Федерация, Москва
Отличия от конкурентов
Вид документа об охране ИС программа для ЭВМ
Номер документа ИС 201561121
Дата регистрации документа ИС 2015-01-26
Необходимые инвестиции для внедрения договорная
Сроки внедрения
Стоимость предоставления технологии договорная
Наличие экспертного заключения Нет

Польза для потенциального потребителя

Программа описывает процессы в промежутке мишень-подложка при ионной имплантации однозарядных ионов из импульсной лазерной плазмы. Программа позволяет при варьировании свойств плазмы и параметров включаемого высоковольтного импульса получать информацию о временной эволюции (форме импульса) и энергетическом распределении ионов, динамике набора дозы имплантируемых ионов, пространственном распределении компонент плазмы и потенциала электрического поля в различные моменты времени. Моделирование проводилось методом «частиц в ячейках» PIC (Particle-in-Cell). Для описания физических явлений в плазме методом PIC совместно решались уравнения движения электронов и ионов и уравнения Пуассона для потенциала самосогласованного электрического поля, рассчитываемого на узлах пространственной сетки.
Тип реализующей ЭВМ: IBM PC - совмест. ПК на базе Pentium II и выше
Язык программирования: Fortran
Вид и версия операционной системы: Windows
Объем программы для ЭВМ: 50 Кб