Моделирование ионной имплантации из импульсной лазерной плазмы во внешнем электрическом поле

Программа описывает процессы в промежутке мишень-подложка при ионной имплантации однозарядных ионов из импульсной лазерной плазмы. Программа позволяет при варьировании свойств плазмы и параметров включаемого высоковольтного импульса получать информацию о временной эволюции (форме импульса) и энергетическом распределении ионов, динамике набора дозы имплантируемых ионов, пространственном распределении компонент плазмы и потенциала электрического поля в различные моменты времени. Моделирование проводилось методом «частиц в ячейках» PIC (Particle-in-Cell). Для описания физических явлений в плазме методом PIC совместно решались уравнения движения электронов и ионов и уравнения Пуассона для потенциала самосогласованного электрического поля, рассчитываемого на узлах пространственной сетки.
Тип реализующей ЭВМ: IBM PC - совмест. ПК на базе Pentium II и выше
Язык программирования: Fortran
Вид и версия операционной системы: Windows
Объем программы для ЭВМ: 50 Кб