Устройство для управления кривой качания рентгеновского кристалла-монохроматора

Полезная модель относится к рентгеновской оптике, в частности к технике формирования рентгеновского излучения с использованием устройства для управления кривой качания рентгеновского кристалла-монохроматора (КМ), и может быть использована в рентгеновском структурном анализе при настройке рентгеновского монохроматора, выполненного на основе КМ с брэгговской поверхностью его дифрагирующего слоя, подвергающегося для изменения рабочих параметров кривой качания КМ тепловому воздействию видимым и/или инфракрасным излучением. Технический результат заявляемой полезной модели - разработка устройства для управления кривой качания рентгеновского КМ повышенной эффективности в результате расширения функциональных возможностей настройки КМ и обеспечения ее повышенной технологичности за счет появления функции изменения углового положения кривой качания КМ в результате введения в конструкцию заявляемого устройства средства изменения температуры дифрагирующего слоя КМ, с возможностью его исполнения в виде технологичного элемента Пельтье, при выигрышном изменении полуширины кривой качания КМ в результате технологичного изменения градиентного температурного распределения вдоль дифрагирующего слоя на основе изменения мощности более простого, чем мультимедийный проектор, и без оптического транспаранта источника теплового воздействия оптическим излучением, выполненного в виде лазерного источника, имеющего увеличенную ширину (например, 55° и выше) диаграммы направленности его излучения с распределением интенсивности в поперечном сечении лазерного пучка, приближающимся к линейному. Для достижения указанного технического результата в устройстве для управления кривой качания рентгеновского КМ, представляющем собой источник теплового воздействия на дифрагирующий слой КМ излучением видимого и/или инфракрасного диапазона длин волн, выполненный с возможностью распределения его интенсивности вдоль дифрагирующего слоя, приводящего в результате поддержания температурного градиента в дифрагирующем слое вдоль него к продольному распределению межплоскостных расстояний в нем в соответствии с задаваемой формой кривой качания, и с возможностью изменения мощности излучения, обеспечивающего изменение температурного градиента в дифрагирующем слое, приводящего к градиентному продольному изменению межплоскостных расстояний в нем в соответствии с выбранной полушириной кривой качания КМ, упомянутый источник теплового воздействия выполнен в виде лазерного источника, имеющего увеличенную ширину диаграммы направленности его излучения с распределением интенсивности излучения в поперечном сечении лазерного пучка, приближающимся к линейному, а предлагаемое устройство снабжено дополнительным средством изменения температуры дифрагирующего слоя КМ, приводящего к одинаковому изменению межплоскостных расстояний вдоль дифрагирующего слоя в соответствии с условием регулирования углового положения кривой качания.