Атомная литография наноструктур из различных материалов на заданном расстоянии друг от друга с нанометровой точностью
Компанец Олег Николаевич
14 сентября 2018
365
| Предметная область | — |
| Отрасли по ОКВЭД | — |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Отличия от конкурентов | — |
| Вид документа об охране ИС | полезная модель |
| Номер документа ИС | 127238 |
| Дата регистрации документа ИС | 2013-04-20 |
| Необходимые инвестиции для внедрения | договорная |
| Сроки внедрения | — |
| Стоимость предоставления технологии | договорная |
| Наличие экспертного заключения | Нет |
Польза для потенциального потребителя
Полезная модель относится к прикладной науке и технике, и может быть использована для изготовления функциональных элементов в электронике, оптоэлектронике, нанофотонике, оптических устройствах, создания элементов памяти, создания элементов наноразмерных стандартов длины, зародышей для роста кристаллических наноструктур, гетероструктур, центров окраски и центров люминесценции. Атомно-ионная камера обскура состоит из пульта управления, атомной пушки, маски на микроподвижке, пленки с наноотверстием и подложки. За счет того, что маска установлена на микроподвижке, что открывает возможность создавать на подложке наноструктуры из различных материалов на контролируемом наноразмерном расстоянии друг от друга.