Способ изготовления фазовых дифракционных микроструктур

Использование: для создания дифракционных оптических элементов видимого и ультрафиолетового диапазона. Сущность изобретения заключается в том, что способ изготовления фазовых дифракционных микроструктур заключается в том, что на тонкопленочные титановые слои, напыленные на подложку из прозрачного материала, посредством растрового лазерного микроскопа воздействуют сканирующим лазерным излучением, что приводит к возникновению оксидных микроструктур титана, на подложке с нанесенным на нее топологическим рисунком микроструктура формируется путем термического окисления пленки молибдена толщиной не менее 15 нм при температуре 450-550°С. Технический результат: обеспечение возможности формирования фазовой микроструктуры на поверхности подложки без применения ионно-реактивного травления, что обеспечивает сокращение времени технологического цикла и количества технологических операций.