Способ формирования 3D микроструктур кремния металл-стимулированным травлением

14 сентября 2018
remove_red_eye14
Предметная область
Отрасли по ОКВЭД
Страна, регион, город Российская Федерация, Москва
Отличия от конкурентов
Документ об охране прав на интеллектуальную собственность Нет
Вид документа об охране ИС изобретение
Номер документа ИС 2620987
Дата регистрации документа ИС 2017-05-30
Необходимые инвестиции для внедрения
Сроки внедрения
Стоимость предоставления технологии
Наличие экспертного заключения Нет

Польза для предприятия

Изобретение относится к области микроэлектроники, в частности к технологии создания 3D микроструктур кремния, являющихся элементной базой функциональной микроэлектроники, металл-стимулированным травлением с использованием локально расположенных масок Ni. В состав раствора для травления кремния входит фтористоводородистая кислота, перекись водорода и деионизованная вода в объемном соотношении 2:1:10. Процесс травления с использованием никеля является экономически выгодным процессом, так как позволяет заменить дорогостоящие благородные металлы и удешевить технологию создания кремниевых 3D структур.