Способ формирования 3D микроструктур кремния металл-стимулированным травлением

14 сентября 2018
481
Предметная область —
Отрасли по ОКВЭД —
Страна, регион, город Российская Федерация, Москва
Отличия от конкурентов —
Вид документа об охране ИС изобретение
Номер документа ИС 2620987
Дата регистрации документа ИС 2017-05-30
Необходимые инвестиции для внедрения договорная
Сроки внедрения —
Стоимость предоставления технологии договорная
Наличие экспертного заключения Нет

Польза для потенциального потребителя

Изобретение относится к области микроэлектроники, в частности к технологии создания 3D микроструктур кремния, являющихся элементной базой функциональной микроэлектроники, металл-стимулированным травлением с использованием локально расположенных масок Ni. В состав раствора для травления кремния входит фтористоводородистая кислота, перекись водорода и деионизованная вода в объемном соотношении 2:1:10. Процесс травления с использованием никеля является экономически выгодным процессом, так как позволяет заменить дорогостоящие благородные металлы и удешевить технологию создания кремниевых 3D структур.