Устройство импульсного лазерного осаждения наноструктурированных материалов

Устройство для импульсного лазерного осаждения, включающее импульсно-периодический лазер, поворотное зеркало, собирающую линзу (объектив), вакуумную камеру с входными оптическими окнами, в одно из которых заводится лазерное излучение, мишень, механизм смены мишеней, располагающуюся напротив мишени подложку, механизм смены и нагрева подложек, отличающееся тем, что между подложкой и мишенью в непосредственной близости от подложки располагается плоский экран, край которого перемещается над поверхностью подложки заданным образом для получения плоской или клиновидной или более сложной поверхности пленок и многослойных структур.