Уникальная технологическая установка атомной литографии наноструктур с контролем их характеристик в условиях чистого помещения класса ISO 5 на базе оборудования ИСАН, ЭЗНП, НТ-МДТ (Россия) и фирм Komponenten (ФРГ), Varian (Италия), Nikon (Япония), VEECO (
14 сентября 2018
340
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Год производства | 2012 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
| Стоимость предоставления услуг | от 33 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | Получение методами атомной оптики наноструктур заданной геометрии на поверхности кремния, сапфира, кварца и др. диэлектриков с поперечным размером наноструктур менее 30 нм |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Создание наноструктур с минимальным размером элемента менее 30 нм и тонких плёнок из материалов полупроводниковой электроники в условиях ультравысокого вакуума и контроль их характеристик