Нанотехнологический комплекс "Умка-02-L" (Наноиндустрия)
14 сентября 2018
227
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Год производства | 2006 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | от 8 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Представляет собой сканирующий туннельный микроскоп и предназначен для исследования поверхностей объектов с высоким разрешением вплоть до атомарного.
Поле сканирования, мкм: 5x5; - разрешение в плоскости образца, нм, не хуже: 0,02; - разрешение по вертикали, нм, не хуже: 0,01; - ток сканирования, пА: 20...5000; - напряжение на зазоре, В: - 0,01...2,5; - размер образца, мм: 8x8x0,5; - время сканирования кадра с атомарным - разрешением (3x3 нм), с, не более:2; - время сканирования полного кадра (7x7 нм), мин, не более: 4; - время выхода на рабочий режим, мин, не более: 10.
Поле сканирования, мкм: 5x5; - разрешение в плоскости образца, нм, не хуже: 0,02; - разрешение по вертикали, нм, не хуже: 0,01; - ток сканирования, пА: 20...5000; - напряжение на зазоре, В: - 0,01...2,5; - размер образца, мм: 8x8x0,5; - время сканирования кадра с атомарным - разрешением (3x3 нм), с, не более:2; - время сканирования полного кадра (7x7 нм), мин, не более: 4; - время выхода на рабочий режим, мин, не более: 10.