Модуль осаждения из газовой фазы для установки плазмохимического травления ПХО100
14 сентября 2018
597
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Якутия, Якутск |
| Страна производства | РФ |
| Год производства | 2013 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | от 42 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | 1 |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
•Получение диэлектрических слоев для нужд планарной электроники (SiO2, Si3N4, Al2O3, SiNO) методом плазмохимического осаждения из газовой фазы.