| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | США |
| Год производства | 2009 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
| Стоимость предоставления услуг | от 1 748 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Установка предназначена для осаждения тонких металлических покрытий из паровой фазы на поверхность изделий из полупроводниковых; кварцевых, стеклянных и прочих диэлектрических материалов в вакууме. Применяется в цикле изготовления микроэлектронных компонентов, интегральных микросхем и подобных устройств микроэлектронной промышленности.
| Наименование | Страна производства | Условия использования | Расположение |
|---|---|---|---|
| Сканирующая камера системы "PIV" | РФ | Аренда, Заказ исследования | Пермь |
| Приставка для анализа тонких пленок в комплекте с программным обеспечением к рентгеновскому дифрактометру XRD-7000 (Shimadzu) | Япония | Аренда, Заказ исследования | Пермь |
| Технологический комплекс напыления тонких пленок металлов SEGI-RFA3-4TR | США | Аренда, Заказ исследования | Москва |
| Технологический комплекс напыления тонких пленок металлов | США | Аренда, Заказ исследования | Москва |