Малогабаритная вакуумная установка реактивно-ионного травления МВУ ТМ РИТ (НИИ точного машиностроения)
14 сентября 2018
436
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Год производства | 2012 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | договорная |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Установка предназначена для травления тонких диэлектрических (SiO2, Si2N4) и металлических слоёв (Мо, Cr и др.), а также полупроводниковых материалов (GaAs, Si и др.) методом плазмохимического реактивно-ионного травления.