Установка осаждения из газовой фазы LPCVD LC102 (ANNEALSYS)
14 сентября 2018
258
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Франция |
| Год производства | 2012 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | от 45 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначена для проведения процессов LPCVD на пластинах диаметром до 4-х дюймов для НИОКР и мелкосерийного производства. Установка применяется для процессов отжига и LPCVD. Реактор установки поддерживает загрузку до 50 пластин диаметром 100 мм в реактор. Труба (реактор) установки сделан из кварца и имеет фланец из нержавеющей стали. Кварцевые лодочки держатся на двух кварцевых стержнях прикрепленных к двери камеры. Нагреватели обеспечивают быстрый термическую реакцию и низкий уровень загрязнения. Температурный контроллер высокого качества контролирует температуру в каждой нагревательной зоне. Печь может быть сконфигурирована с двумя реакторами (LC102)