Высоковакуумная установка молекулярно-пучковой эпитаксии SiGe гетероструктур SIVA-21
14 сентября 2018
598
Классификация оборудования | |
Страна, регион, город | Российская Федерация, Нижегородская область, Нижний Новгород |
Страна производства | Франция |
Год производства | 2007 |
Предоставляемое количество | 1 |
Условия использования | |
Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Стоимость предоставления услуг | от 1 500 000 руб. |
Регламент предоставления услуги | Хоздоговор |
Объект коллективного пользования | Нет |
Наличие аккредитации | Нет |
Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Высоковакуумная установка молекулярно-пучковой эпитаксии SIVA-21 предназначена для получения гетероструктур на основе кремния и германия на подложках диаметром до 100 мм. Установка оборудована специализированными источниками для испарения кремния и германия, а также для испарения акцепторной (бор) и донорной (сурьма) примесей. Наличие в установке компьютерного контроля толщиной и составом осаждаемых слоев позволяет получать сложные, многослойные SiGe нанооструктуры с заданным профилем распределения состава и легирующих примесей.