Установка плазменного травления диэлектрических покрытий 210 IL (Corial)
14 сентября 2018
609
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Франция |
| Год производства | 2007 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
| Стоимость предоставления услуг | от 15 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Позволяет проводить технологические операции создания межприборной изоляции; глубокого анизотропного травления (в том числе кремния); травления «cложных» материалов (карбиды, нитриды); сквозного травления обратной стороны (back-etch, via), травления металлизации; и многих других.
