| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Франция |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Предназначена для осаждения на подложки следующих пленок: SiO2, Si3N4, SixNy. Высокотемпературный изотермический реактор, находящийся внутри вакуумной камеры, обеспечивает высокую равномерность осаждения пленок. Симметричный дизайн реактора позволяет проводить бомбардировку ионами пластины с достижением минимального стресса. Плазменный реактор изготовлен из алюминия для обеспечения равномерного температурного распределения. Детектор окончания процесса полностью интегрирован в программное обеспечение и механику системы.
