Установка экспонирования контактной фотолитографии MJB4 (SUSS)
14 сентября 2018
570
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Нижегородская область, Нижний Новгород |
| Страна производства | Германия |
| Год производства | 2016 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | от 6 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначена для контактной литографии базового уровня. Обработка пластин до 100 мм. Основные возможности: Экспонирование высокого разрешения – до 0,5 микрон; Размер обработки пластин и подложек - до 100 мм диаметром (пластины) и до 100х100 мм (подложки). Специальные держатели для кусков пластин, А3-Б5, толстых подложек, гибридных схем и ВЧ; Высокоточная юстировка на плоскости и манипулятора микроскопа; Возможность конфигураций оптики интенсивной УФ и экспозиций с длиной волны до 80 мВт/см2; Минимальные затраты на обучение операторов установки; Графический интерфейс пользователя управляет функциями установки со специального экрана, чувствительного к нажатиям; Легкий доступ ко всем элементам установки; При необходимости устанавливается лазерное оборудование.