| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Германия |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Предназначена для реализации процессов сухого плазменного травления. Позволяет обрабатывать как пластины диаметром до 200 мм, так и кусочки. Мощная двухступенчатая вакуумная система позволяет быстро откачивать камеру реактора и получать достаточно глубокий вакуум для проведения процессов травления. Обработка пластин диаметром до 200 мм или до 7х7 дюймов; Процесс: RIE; Вакуумный загрузочный шлюз; Химия: фторна / хлорная; Кластерная конфигурация; Групповая обработка пластин; Держатели для пластин меньшего размера; Компактный дизайн и малая занимаемая площадь; до 16 газовых линий (фторная химия); Программное обеспечение SENTECH control software.
