Установка плазмохимического травления и осаждения ЭТНА-П (AFMHD)
14 сентября 2018
590
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Предназначена для плазмохимического осаждения из газовой фазы диэлектрических слоев (SiO2, Si3N4 и др.), удаления фоторезиста в кислородной плазме, плазмохимического травления широкого спектра материалов, очистки и модифицирования поверхности подложек и структур. Ориентирована на лабораторное исследовательское и образовательное применение, а также мелкосерийное производство.
