Малогабаритная вакуумная установка газофазного осаждения слоев при пониженном давлении ИЗОТРОН ТМ-1 (НИИТМ)
14 сентября 2018
775
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Предназначена для обеспечения газофазного осаждения слоёв гидрида и оксида кремния при пониженном давлении. Групповая обработка до 30 пластин до Ø 100 мм; Кварцевый реактор с термостатируемой рабочей зоной; Диапазон рабочих температур 300-900° С; Микропроцессорная система управления; Рабочие газы: N2, О2, NH3, SiH4, Ar; Форвакуумная (безмасляная) система откачки; Мощность потребления не более 12 кВт; Возможность встраивания в «чистую» комнату; Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2 м2.