| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 10 млн руб |
Описание
Предназначена для вакуумного и магнетронного напыления на любые плоские (толщина не более 30 мм) подложки Ø до 150 мм. (максимальная плоскость обрабатываемых изделий 150х650 мм). Данная установка предназначена для серийного производства больших объемов. Магнетроны (от 1 до 4-х шт.) устанавливаются внутри барабана. Напыление ведётся, вертикально распыляя материал на внутреннюю сторону носителей вращающихся на барабане. Установка комплектуется магнетронами от одного до четырёх штук для распыления любых материалов, будь то резистивные сплавы, Cu, Cr, Ni, Al и т.п. Допустима работа источника ионов совместно с магнетроном на смеси газов. Размер мишеней (могут использоваться составные мишени не прямого охлаждения), 749х100х6÷15 мм.