Установка спреевого нанесения резиста iSpray-300 (Sawatec)

Установка нанесения фоторезиста спреем SAWATEC iSpray-300 идеальный инструмент с ручной загрузкой, особенно в НИОКР-подразделениях и небольших производствах МЭМС. Система позволяет наносить фоторезист на поверхность глубокой развитой топологии. Специальная форсунка гарантирует минимальные размеры капли резиста, обеспечивая однородное покрытие по всей площади подложки.
Для круглых подложек до 300 мм (максимально) и квадратных подложек 12 x 12 дюймов.

Основные возможности:

Процесс контроллер с сенсорной монохромной панелью 3,5 дюйма.
Задаваемые параметры: Поз. X; Y; время (сек.), время распыления (сек.), скорость по X и Y координатам.
Запуск процесса нажатием клавиши "старт" или через сенсорную панель управляющего ПО.
До 50 рецептов (зависит от размера каждого рецепта).
До 24 шагов в каждом рецепте.
Внутренняя рабочая камера с габаритами 400x400 мм.
Закрытая рабочая зона.
Электр. управляемая рука с форсункой, с возможностью выбора скорости по X и Y.
Выбор геометрии рецепта: круглые и квадратные подложки.
Форсунка Micro 3 (0,3 мм Форсунка).
Контроллеры управления сжатым воздухом и вакуумом.
Загрузка подложек: ручная.