Установка безмасковой лазерной литографии DWL 2000 (Heidelberg Instruments )
14 сентября 2018
642
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Германия |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Предназначена для задач производств крупных серий для формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др. Система оснащена диодным лазером, работающим на длине волны 405 нм, (100 мВт или больше по запросу). В зависимости от технических требований заказчика установка может быть оснащена различными лазерными системами: Kr-ion (413 нм, 300 мВт) или UV (375 нм, 18 мВт).
