Установка нанесения фоторезиста распылением iSPRAY 300 (SAWATEC)
14 сентября 2018
619
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Швейцария |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Предназначена для нанесения фоторезистов на рельефные структуры с высокой равномерностью в условиях мелкосерийного производства. Особенности: высокая равномерность нанесения; работа с подложками размером до 300×300 мм; работа со структурами с высоким аспектным соотношением; программная обработка квадратных / круглых подложек; возможность дооснащения модулями центрифугирования до 6000 об/мин и термостоликом до 150°С; удобный тачскрин интерфейс.