Установка химического никелирования УХН-20М

14 сентября 2018
598
Классификация оборудования
Страна, регион, город Российская Федерация, Саратовская область, Саратов
Страна производства РФ
Предоставляемое количество 1
Условия использования
Продажа
Стоимостная группа до 500 000 тыс. руб.

Описание

Предназначена для химического никелирования деталей из сталей углеродистой и коррозионностойкой, алюминия, титана, меди и сплавов на их основе с многократным использованием раствора.
Установка УХН-20М обеспечивает покрытие деталей сложной конфигурации, не способствующих образованию газовых "пробок". В отверстиях, каналах, вырезах, на вогнутых участках глубокопрофилированных деталей толщина покрытия снижается на 50% в сравнении с наружными поверхностями. В глухих отверстиях d5 - d12 мм и сквозных отверстиях d1,5 - d6 мм толщина покрытия нормируется на глубине одного диаметра.
Производительность (при толщине покрытия 15 - 18 мкм), м2/ч 0,2
Скорость осаждения покрытия, мкм/мин, не менее 15
Поверхность одновременно покрываемых деталей, м2, не более 0,2
Вес деталей одновременно завешиваемых на механизм качания, кг, не более 20
Общий объем ванны-реактора, л 32
Объем рабочей зоны, л 20
Внутренние размеры ванны-реактора,мм 300х350х200
Рабочая температура раствора, °К (°С) 363 ± 2 (90 ± 2)
Обогрев - через стенки (электронагревательные элементы), °С 200
Контроль температуры (на стенках и в растворе) двухканальный
Объем корректировочного бака, л 10
Механизм подачи корректировочного раствора перистальтический насос
Механизм подачи раствора аммиака перистальтический насос
Габариты заготовок (покрываемых деталей):
максимальные, мм 200х250х200
минимальные нет ограничений
Напряжение переменного трехфазного тока частотой 50 Гц, В 380 ± 38
Потребляемая мощность, кВт, не более 5
Давление технического водопровода, не менее, МПа 0,1
Расход воды, не более, л/ч 35
Расход сжатого воздуха, м3/ч, не более 4
Пределы регулирования скорости подачи корректирующего раствора (подогретого), л/ч 5 - 150
Габариты установки, не более, мм 670х580х1150
* Габариты ванны-реактора, не более, мм 300х350х300
Масса установки, не более, кг 100
Средняя наработка на отказ, ч, не менее 2000
Найти аналог
Вам может быть интересно
Наименование Страна производства Условия использования Расположение
Установка комбинированной ионнопучковой обработки "ДИАНА-3" РФ Аренда, Заказ исследования Томск
Ионно-лучевая установка для повышения стойкости режущего и штампового инструмента, деталей машин и механизмов (ИФПМ) РФ Аренда, Заказ исследования Томск
Установка для быстрого прототип. Projet 3510 sd Германия Аренда, Заказ исследования Хабаровск
Установка импринт нанолитографии Eitre (Obducat) Франция Аренда, Заказ исследования Новосибирск
Специализированная установка для выращивания поликристаллических алмазных плёнок и пластин методом осаждения из газовой фазы неравновесного разряда, поддерживаемого миллиметровым излучением Гиротронный комплекс РФ Аренда, Заказ исследования Нижний Новгород
Установка для измерения транспортных свойств твёрдых тел ФЭЛ-18 РФ Аренда, Заказ исследования Красноярск
Напылительная установка для вакуумного осаждения металла JFC-1600 (Jeol) Япония Аренда, Заказ исследования Сыктывкар
Многовариантная и многофункциональная лабораторная установка MagicLab (IKA) Германия Аренда, Заказ исследования Москва
Установка плазмохимического осаждения алмаза УПСА-100 РФ Аренда, Заказ исследования Москва
Установка для плазмохимического осаждения из газовой фазы LPX PECVD (SPP Process Technology Systems) Великобритания Аренда, Заказ исследования Москва