Установка химического никелирования УХН-100М

14 сентября 2018
529
Классификация оборудования
Страна, регион, город Российская Федерация, Саратовская область, Саратов
Страна производства РФ
Предоставляемое количество 1
Условия использования
Продажа
Стоимостная группа от 500 тыс. до 1 млн. руб.

Описание

Установка химического никелирования УХН-100М предназначена для химического никелирования деталей из сталей углеродистой и коррозионностойкой, алюминия, титана, меди и сплавов на их основе с многократным использованием раствора.
Установка УХН-100М обеспечивает покрытие деталей сложной конфигурации, не способствующих образованию газовых "пробок". В отверстиях, каналах, вырезах, на вогнутых участках глубоко профилированных деталей толщина покрытия снижается на 50% в сравнении с наружными поверхностями. В глухих отверстиях d5 - d12 мм и сквозных отверстиях d1,5 - d6 мм толщина покрытия нормируется на глубине одного диаметра.
Установка химического никелирования УХН-100М предназначена для эксплуатации в зонах умеренно холодного климата в помещениях с принудительной вентиляцией, климатическое исполнение УХЛ, категория размещения 4.
Производительность (при толщине покрытия 15 - 18 мкм), м2/ч 1,0
Скорость осаждения покрытия, мкм/мин, не менее 15
Поверхность одновременно покрываемых деталей, м2, не более 1,0
Вес деталей одновременно завешиваемых на механизм качания, кг, не более 20
Общий объем ванны-реактора, л 150
Объем рабочей зоны, л 100
Внутренние размеры ванны-реактора,мм 600x500x350
Рабочая температура раствора, °К (°С) 363 ± 2 (90 ± 2)
Обогрев - через стенки (электронагревательные элементы), °С 350
Контроль температуры (на стенках и в растворе) двухканальный
Объем корректировочного бака, л 10
Механизм подачи корректировочного раствора перистальтический насос
Механизм подачи раствора аммиака перистальтический насос
Габариты заготовок (покрываемых деталей):
максимальные, мм 500х400х250
минимальные нет ограничений
Напряжение переменного трехфазного тока частотой 50 Гц, В 380 ± 38
Потребляемая мощность, кВт, не более 5
Давление технического водопровода, не менее, МПа 0,1
Расход воды, не более, л/ч 160
Расход сжатого воздуха, м3/ч, не более 4
Пределы регулирования скорости подачи корректирующего раствора (подогретого), л/ч 5 - 150
Габариты установки, не более, мм 1200х1000х1400
* Габариты ванны-реактора, не более, мм 600х500х500
Масса установки, не более, кг 150
Средняя наработка на отказ, ч, не менее 2000
Найти аналог
Вам может быть интересно
Наименование Страна производства Условия использования Расположение
Установка комбинированной ионнопучковой обработки "ДИАНА-3" РФ Аренда, Заказ исследования Томск
Ионно-лучевая установка для повышения стойкости режущего и штампового инструмента, деталей машин и механизмов (ИФПМ) РФ Аренда, Заказ исследования Томск
Установка для быстрого прототип. Projet 3510 sd Германия Аренда, Заказ исследования Хабаровск
Установка импринт нанолитографии Eitre (Obducat) Франция Аренда, Заказ исследования Новосибирск
Специализированная установка для выращивания поликристаллических алмазных плёнок и пластин методом осаждения из газовой фазы неравновесного разряда, поддерживаемого миллиметровым излучением Гиротронный комплекс РФ Аренда, Заказ исследования Нижний Новгород
Установка для измерения транспортных свойств твёрдых тел ФЭЛ-18 РФ Аренда, Заказ исследования Красноярск
Напылительная установка для вакуумного осаждения металла JFC-1600 (Jeol) Япония Аренда, Заказ исследования Сыктывкар
Многовариантная и многофункциональная лабораторная установка MagicLab (IKA) Германия Аренда, Заказ исследования Москва
Установка плазмохимического осаждения алмаза УПСА-100 РФ Аренда, Заказ исследования Москва
Установка для плазмохимического осаждения из газовой фазы LPX PECVD (SPP Process Technology Systems) Великобритания Аренда, Заказ исследования Москва