Установка химического никелирования УХН-250М

14 сентября 2018
544
Классификация оборудования
Страна, регион, город Российская Федерация, Саратовская область, Саратов
Страна производства РФ
Предоставляемое количество 1
Условия использования
Продажа
Стоимостная группа от 500 тыс. до 1 млн. руб.

Описание

Установка химического никелирования УХН-250М предназначена для химического никелирования деталей из сталей углеродистой и коррозионностойкой, алюминия, титана, меди и сплавов на их основе с многократным использованием раствора.
Установка обеспечивает покрытие деталей сложной конфигурации, не способствующих образованию газовых "пробок". В отверстиях, каналах, вырезах, на вогнутых участках глубокопрофилированных деталей толщина покрытия снижается на 50% в сравнении с наружными поверхностями.
В глухих отверстиях d5 - d12 мм и сквозных отверстиях d1,5 - d6 мм толщина покрытия нормируется на глубине одного диаметра.
Установка предназначена для эксплуатации в зонах умеренно холодного климата в помещениях с принудительной вентиляцией, климатическое исполнение УХЛ, категория размещения 4.
Производительность, м2/ч 2,5
Скорость осаждения покрытия, мкм/ч (не менее) 15
Поверхность одновременно покрываемых деталей, м2, (не более) 2,5
Вес деталей, одновременно завешиваемых на механизм качания, кг, не более 20
Общий объём ванны, л 350
Объем рабочей зоны, л 250
Внутренние размеры рабочей зоны, мм:
длина, мм 1000
ширина, мм 500
глубина, мм 600
Обогрев (через стенки) ТЭН
Контроль температуры (на стенках и в растворе) двухканальный
Температура раствора в рабочей зоне, град К (°С) 363+2 (90+2)
Время разогрева раствора до рабочей температуры, мин 60
Объём бака корректировочного, л 40
Подача корректировочного раствора пересталический насос
Подача раствора аммиака пересталический насос
Максимальные габариты покрываемой детали, мм 850х400х320
Энергетика:
напряжение переменного трехфазного тока частотой 50 Гц, В 380±38
давление технического водопровода, МПа (не менее) 0,1
потребляемая мощность, кВт, не более 24
Габариты, мм 1650х1250х1400
Габариты ванны-реактора, мм 1000х500х750
Масса установки, кг, не более 300
Найти аналог
Вам может быть интересно
Наименование Страна производства Условия использования Расположение
Установка комбинированной ионнопучковой обработки "ДИАНА-3" РФ Аренда, Заказ исследования Томск
Ионно-лучевая установка для повышения стойкости режущего и штампового инструмента, деталей машин и механизмов (ИФПМ) РФ Аренда, Заказ исследования Томск
Установка для быстрого прототип. Projet 3510 sd Германия Аренда, Заказ исследования Хабаровск
Установка импринт нанолитографии Eitre (Obducat) Франция Аренда, Заказ исследования Новосибирск
Специализированная установка для выращивания поликристаллических алмазных плёнок и пластин методом осаждения из газовой фазы неравновесного разряда, поддерживаемого миллиметровым излучением Гиротронный комплекс РФ Аренда, Заказ исследования Нижний Новгород
Установка для измерения транспортных свойств твёрдых тел ФЭЛ-18 РФ Аренда, Заказ исследования Красноярск
Напылительная установка для вакуумного осаждения металла JFC-1600 (Jeol) Япония Аренда, Заказ исследования Сыктывкар
Многовариантная и многофункциональная лабораторная установка MagicLab (IKA) Германия Аренда, Заказ исследования Москва
Установка плазмохимического осаждения алмаза УПСА-100 РФ Аренда, Заказ исследования Москва
Установка для плазмохимического осаждения из газовой фазы LPX PECVD (SPP Process Technology Systems) Великобритания Аренда, Заказ исследования Москва