| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Год производства | 2014 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 500 тыс. до 1 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | от 70 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначена для импульсного воздействия на образцы световым излучением высокой интенсивности (10 и более Вт/см2) с целью структурной модификации материала, возбуждения электронной подсистемы, в том числе за счет реализации режима многофотонного поглощения, а также для ассистирования процесса роста тонких пленок методом высокочастотного магнетронного распыления.