Установка плазменного осаждения диэлектриков с вакуумным загрузочным шлюзом PECVD SI 500 PPD (SENTECH Instruments)
14 сентября 2018
402
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | Германия |
| Год производства | 2015 |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
| Стоимость предоставления услуг | от 40 000 руб. |
| Регламент предоставления услуги | — |
| Объект коллективного пользования | Нет |
| Наличие аккредитации | Нет |
| Наличие ГОСТированной методики | Нет |
Описание
Предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов плазмо-химического осаждения диэлектрических пленок (SiO2, Si3N4, SiOx, SiOxNy) на различные подложки.