Фотометрический спектральный эллипсометр "Эльф" (ИН МФК)
14 сентября 2018
624
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | РФ |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Предназначен для измерения толщин пленок и слоев в тонкопленочных структурах, исследования структуры материалов и наноструктур, анализа состояния поверхности и структуры тонких поверхностных слоев методами эллипсометрии. Исследует в обычной атмосфере, при различных температурах и давлениях, в различных средах, включая агрессивные. Обеспечивает: бесконтактность, неразрушающий характер, оперативность измерения. Может работать в режиме спектрального фотометра. Применение: для исследования и технологического контроля процессов производства наноразмерных материалов и структур, электронных компонентов и др.