Установка плазменной очистки G500 (Yield Engineering Systems)
14 сентября 2018
606
| Классификация оборудования | |
| Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
| Страна производства | США |
| Предоставляемое количество | 1 |
| Условия использования | |
| Стоимостная группа | от 1 до 10 млн. руб. |
Описание
Установка обеспечивают низкочастотную плазменную очистку (40 кГц). Плазма генерируется между двумя активными электродами и заземлёнными электродами или
стенками рабочей камеры. Ламинарный поток рабочего газа в камере обеспечивает отличную стабильность и равномерность плазмы и отсутствие мёртвых зон обработки.
стенками рабочей камеры. Ламинарный поток рабочего газа в камере обеспечивает отличную стабильность и равномерность плазмы и отсутствие мёртвых зон обработки.
