Установка плазменной очистки G500 (Yield Engineering Systems)

14 сентября 2018
606
Классификация оборудования
Страна, регион, город Российская Федерация, Москва
Страна производства США
Предоставляемое количество 1
Условия использования
Продажа
Стоимостная группа от 1 до 10 млн. руб.

Описание

Установка обеспечивают низкочастотную плазменную очистку (40 кГц). Плазма генерируется между двумя активными электродами и заземлёнными электродами или
стенками рабочей камеры. Ламинарный поток рабочего газа в камере обеспечивает отличную стабильность и равномерность плазмы и отсутствие мёртвых зон обработки.
Найти аналог
Вам может быть интересно
Наименование Страна производства Условия использования Расположение
Экспериментальная установка для синтеза во взвешенном слое (СПГУ) РФ Аренда, Заказ исследования Санкт-Петербург
Установка ионно-плазменного травления "Каролина 15" (Эстовакуум) РФ Аренда, Заказ исследования Санкт-Петербург
Установка травления ионами "PIPS™ 691" (Gatan) США Аренда, Заказ исследования Москва
Ростовая установка «Ника-3» РФ Аренда, Заказ исследования Мурманск
Установка химической обработки PCB 500S (Mega Electronics) Великобритания Аренда, Заказ исследования Москва
Установка плазмохимического травления STS CPX Великобритания Аренда, Заказ исследования Москва
Каталитическая установка для проведения испытаний активности и селективности гетерогенных катализаторов РФ Аренда, Заказ исследования Пермь
Установка плазмохимической обработки «ТеТеМ» РФ Аренда, Заказ исследования Москва
Установка ионно-плазменного травления Plasmalab 80 Plus (Oxford Instruments) Великобритания Аренда, Заказ исследования Владивосток
Установка обработки в парах гексаметилдисилазана Cee® 1300X (Brewer Science) США Аренда, Заказ исследования Москва