Термическая установка газо-фазного осаждение паров Easy Tube 5000, Firstnano
26 апреля 2020
350
Классификация оборудования | |
Страна, регион, город | Российская Федерация, Москва |
Страна производства | США |
Предоставляемое количество | 1 |
Условия использования | |
Стоимостная группа | от 10 млн руб |
Описание
Предназначена для исследовательских задач при осаждении разных III – V и II – VI пленок. Система работает с подложками до 150 мм в диаметре и осуществляет следующие процессы: III-V (GaN, GaAs, AlGaN, InP, др.); II-VI (ZnO, ZnS); IV (Si, Ge, Напряженные пленки Si). Пленки разных составов. Возможность расширения для работы с подложками больше чем 150 мм.