Термическая установка газо-фазного осаждение паров Easy Tube 5000, Firstnano

26 апреля 2020
570
Классификация оборудования
Страна, регион, город Российская Федерация, Москва
Страна производства США
Предоставляемое количество 1
Условия использования
Продажа
Стоимостная группа от 10 млн руб

Описание

Предназначена для исследовательских задач при осаждении разных III – V и II – VI пленок. Система работает с подложками до 150 мм в диаметре и осуществляет следующие процессы: III-V (GaN, GaAs, AlGaN, InP, др.); II-VI (ZnO, ZnS); IV (Si, Ge, Напряженные пленки Si). Пленки разных составов. Возможность расширения для работы с подложками больше чем 150 мм.
Найти аналог
Вам может быть интересно
Наименование Страна производства Условия использования Расположение
Экспериментальная установка для синтеза во взвешенном слое (СПГУ) РФ Аренда, Заказ исследования Санкт-Петербург
Установка ионно-плазменного травления "Каролина 15" (Эстовакуум) РФ Аренда, Заказ исследования Санкт-Петербург
Установка травления ионами "PIPS™ 691" (Gatan) США Аренда, Заказ исследования Москва
Ростовая установка «Ника-3» РФ Аренда, Заказ исследования Мурманск
Установка химической обработки PCB 500S (Mega Electronics) Великобритания Аренда, Заказ исследования Москва
Установка плазмохимического травления STS CPX Великобритания Аренда, Заказ исследования Москва
Каталитическая установка для проведения испытаний активности и селективности гетерогенных катализаторов РФ Аренда, Заказ исследования Пермь
Установка плазмохимической обработки «ТеТеМ» РФ Аренда, Заказ исследования Москва
Установка ионно-плазменного травления Plasmalab 80 Plus (Oxford Instruments) Великобритания Аренда, Заказ исследования Владивосток
Установка обработки в парах гексаметилдисилазана Cee® 1300X (Brewer Science) США Аренда, Заказ исследования Москва